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Caracterización Espectroscópica Del Plasma Generado En La Producción De Recubrimientos De (Tial)N Y (Tialnb)N Utilizando La Técnica De Magnetron Sputtering

Convocatoria Interna

Facultad:
Facultad De Ciencias Exactas Y Naturales
Departamento:
Departamento De Física Y Química
Docente Lider:
Elisabeth Restrepo Parra
erestrepopa@unal.edu.co
Fecha de Inicio:
01/08/2007 07:11
Fecha de Finalización:
01/08/2007 07:11
Presupuesto Total:
$13.000.000,00
Presupuesto Ejecutado:
$0,00
Porcentaje de Ejecución:
100.00%
Ultima Actualización: 10/10/1998